過酸化水素ガスプラズマ滅菌

過酸化水素ガス(H₂O₂)をプラズマ状態にすることで活性酸素ラジカルを発生させ、微生物を不活化する低温滅菌法です。処理温度は40〜60℃、サイクル時間は45〜60分程度で、残留がほぼゼロのため電子部品や多層素材、内視鏡アクセサリーに適しています。EOGと比較して環境負荷が少なく、エアレーション不要で迅速なターンアラウンドが可能です。ISO 14937に基づくバリデーションでは、負荷材質の適合性確認とプラズマ生成の安定性評価が重要となります。